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BBIN BBIN宝盈半导体不会凉凉破局之道近在眼前

发布日期:2022-10-24 00:59 浏览次数:

  根据海外媒体的报导,在10月7日公布了对中国半导体严历限制措施之后,美国政府正在探讨对中国量子计算和人工智能发展施加限制。由于不像半导体是具体的设备材料容易管控,如何在理论研究和开源软件中隔离整个中国需要周密规划,预计到2023年底会开始动作。

  美国绞中国高科技的野心已经毕露无遗,之后任何让人匪夷所思的举措都实属正常。美国的半导体限制措施看起来是针对高性能、先进制程,实际上是强迫美国半导体设备商及美国人放弃中国市场。众所周知,中国早就是世界上最大的半导体消费市场,这两年正在努力成为最大的半导体生产国。美国这么做,其实就是明确的“脱钩”。

  如果按照这个逻辑推理,紧接着美国将会动手的,就包括量子计算、人工智能、自动驾驶、云计算、生物医药、脑科学、核聚变等等,凡是可能挑战美国的高科技行业都会脱钩。半导体是工业的粮食,产业规模庞大,美国如果连粮食都不卖给中国,其他的经济作物就更不可能了。对中国来讲,所有可能追上美国的高科技产业都随时可能“被脱钩”。

  在知乎关于这类话题的评论区,业外人士往往自信爆棚,说我们有钱有人有时间,追上甚至超越美国是大概率事件,与之形成鲜明对比,业内人士全都垂头丧气,别说跟美国一决高下,能不能保住饭碗都难以确定。其实两方都有道理,也都有局限,事情走向哪种结局都有可能。这样的事情在历史上已经发生过很多次,拿破仑曾经联合欧洲大陆对英国禁运,英国也曾要求盟国对正在独立的美国禁运,最终结果也是各不相同。

  我们这一代人有幸身处伟大的历史进程,正在亲眼目睹世界发生巨变,既不能只高喊口号也不能沉默不语,必须具体分析事情的走向,转化成对自己行动的指导。中国半导体产业会怎样?从此一蹶不振,彻底凉凉?答案肯定是否定。但是,也绝不像业外人士想的那么乐观,三五年后能和美国平分秋色。

  单纯从技术上看,半导体产业链很长,中国除了众所周知的光刻机,在离子注入、涂胶显影等各个环节都存在明显短板,甚至很多人以为已经有所突破的清洗设备、抛光上都还算不上够用。更不用说像大硅片、光刻胶这类关键材料,要满足几百个指标的严苛测试异常困难,还只能停留在低端、二供的位置。美国的限制措施确实精准,先进制程半导体的国内生产会嘎然而止,境外代工也难以为继(10月23日台积电通知壁韧停止交货)。

  既然先进制程做不了,那就做成熟制程,同时展开集体攻关,迟早能突破光刻机。说的没错,这确实是唯一的选择,不但我们是这么想的,连美国人也是这么设计的,但效果可能和我们想的完全不一样。根据摩尔定律,“单位面积上的晶体管数量每18个月翻一番,相同芯片的成本每18个月降一半”,先进制程不只是性能高,成本也将碾压成熟制程。如果长期停留在成熟制程上,没有全球产业链的供养,迟早会因为高成本被淘汰出局。

  也就是说,如果只做成熟制程,中国半导体产业就会慢慢变的陈旧且昂贵,就像老旧钢厂也能生产钢材,但质量一般而且还贵,无法生产特种钢等高利润产品。长此以往,为了生存下去,只能压缩人力成本,整个行业又会回到上个世纪那种人人都很忙,但却很穷的状态。那么发挥制优势,用国家力量集体攻关先进制程呢?

  先来了解一下现在最先进的EUV(极紫外)光刻机的历史。1997年英特尔联合美国能源部成立了EUV LLC联盟,不但拉了当年如日中天的摩托罗拉加入,还把AMD这样的竞争对手也拉了进来,其中有一家来自荷兰的小公司ASML成为了联盟的具体推进单位。后来的故事众所周知,ASML成为全球唯一量产EUV光刻机的巨头。虽然会员以各大公司为主,但美国能源部对联盟有决定权,比如将日本尼康排除在外。

  现在日本光刻机厂商尼康、理光对比ASML似乎黯然失色,但美国能源部把他们排除出EUV LLC联盟的原因却是他们的实力过于强大。早在1980年代,日本不但在内存生产上把美国厂商打的满地找牙,尼康“山寨”的光刻机更是把美国光刻机厂商按在地上摩擦,直接导致美国和大部分欧洲国家退出了光刻机产业。而尼康、理光等能发展的这么好,就是因为日本政府动用制联合产业和科技界集体攻关的结果。后来,美国用《广场协议》《美日半导体协议》等大大限制了日本政府的力量,导致日本半导体渐渐输给了美国钦定的韩国。

  从这个角度看,如果中国发挥制优势集体攻关,很有可能追上世界半导体先进水平。但,这其中有一个最重要的前提,就是技术的更新换代。如果不是半导体光刻机从DUV向EUV换代,那ASML就不可能战胜尼康(尼康DUV光刻机至今还在向中国出口)。同样的逻辑之前也曾经成功过,在通信行业,摩托罗拉是1G时代的王者,2G时代造就诺基亚,3G时代华为初登舞台,4G华为埋头追赶,5G时代华为完成领先。

  会不会有下一个重大技术更新的契机让中国半导体捷足先登?现在能看到的,一是半导体材料的更新(从硅向其他材料如第三代半导体切换),二是利用Chiplet技术提高整体良率(小芯块能暂时规避美国对高算力的限制),三是新计算架构(如存算一体颠覆传统计算架构)。另外,目前最先进的制程已经逼近1nm,接近光刻的物理极限,芯片制造技术的革新已经迫在眉睫。

  当然,也不能对制寄予过高期望。政策制定者不是商业大佬,他们的价值点是“安全”,也就是填补国内空白。对于耗费举国之力,去争半导体行业的龙头,只有韩国这样的小国才有可能(韩国在2G/3G时代只选择了美国的CDMA技术,放弃了欧洲的GSM技术)。就像为了核安全,中国只投入一部分人把爆炸,和美国一样成为有核国家即可,至于核技术的先进性就得靠产业界自身。

  在半导体上也会大致如此,可能某一天中国就宣布生产出了EUV光刻机,半导体能否领先全球,还是要靠产业界像过去那样“军民融合”“民”来完成。其他可能受限的高科技行业也是一样,在美国极限施压下,大概率只能暂时在老旧技术上等待。虽然不能像前10年那样百花齐放、牛皮吹破天,但也不至于产业消亡,而是会稳步发展,等待突破的那一天。

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